本站消息宏图优配宏图优配，根据天眼查APP数据显示正海磁材（300224）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种R-T-B类钕铁硼磁体及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202111537578.7，授权日为2025年6月13日。
专利摘要：本发明公开了一种R?T?B类钕铁硼磁体及其制备方法，所述磁体按质量比为100％计，所述磁体包含如下成分：27.0～35.0wt％的R，R为包括Nd的至少一种稀土元素；0.80～0.93wt％的B；0.1～0.50wt％的Cu；0.2?0.5wt％的Ga；0～0.5wt％的M，M为Zr、Ti中的至少一种，且Cu、Ga和M的含量之和大于0.9倍的B的含量；0.1～1.5wt％的Al；余量为Fe、Co以及不可避免的杂质、且Fe占Fe、Co和杂质总含量的95wt％以上。本申请通过调整R，Cu，Ga，M元素的比例，且Cu、Ga和M的含量之和大于0.9倍的B的含量，在合金铸片制成粉末之前，对合金铸片进行750±50℃的保温处理，可在保证90vol％的主相前提下，能够在磁体晶界处形成体积分数40vol％以上的R?Ga?Cu?M相，同时在一定程度上减少R?T?Ga相的存在，避免因R?T?Ga相较多，使磁体的Hcj降低。
今年以来正海磁材新获得专利授权15个，较去年同期增加了275%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了3.14亿元，同比增4.88%。
数据来源：天眼查APP
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